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パッシムのタバコ機械予備品
Created with Pixso. Kretek機械のためのMolins MK9モデルによ穴版Mosfet Irfz44ns

Kretek機械のためのMolins MK9モデルによ穴版Mosfet Irfz44ns

ブランド名: Upperbond
モデル番号: メーカー
MOQ: 2 PC
価格: 交渉可能
配達時間: 5-8日
支払条件: T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram、Paypal
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
CE, ISO
タバコの直径:
5.4mm - 8.0mm
色:
灰色/銀
郵送物の港:
広州、上海
適当な機械:
紙巻タバコ製造機械
機械モデル:
Protos、Passim、MK8、MK9、
条件:
真新しい
パッケージの詳細:
カートン
供給の能力:
10000 PC/月
ハイライト:

Kretek機械のためのIrfz44ns

,

タバコ機械Irfz44ns

,

MK9タバコ機械トランジスター

製品説明

Kretek機械のためのMolins MK9モデルによ穴版Mosfet Irfz44ns

トランジスターは電気信号および電力を増幅するか、または転換するのに使用される半導体デバイスである。トランジスターは現代電子工学の基礎部品構造の1つである。それは外的な回路への関係のための少なくとも3台のターミナルが付いている半導体材料で通常構成される。

源下水管の評価および特徴

変数 タイプ 最高。
ある 連続的なソース電流(ボディ ダイオード) 49
主義 脈打ったソース電流(ボディ ダイオード)① 160
VsD ダイオード前方電圧 1.3
trr 逆の回復時間 63 95
Qrr 逆の回復充満 170 260

ポケット トランジスタ ラジオ

最初の「プロトタイプ」ポケット トランジスタ ラジオは1953年8月29日と1953年9月6日間のインターナショナルFunkausstellungデュッセルドルフ行政管区のINTERMETALL (1952年にハーバートMataréが創設する会社)によって示されていた。最初の「生産」のポケット トランジスタ ラジオは1954年10月に解放された執権期間TR-1だった。

大量生産

50年代では、モハメドAtalla電気が次行なうケイ素に確実に突き通ることができるのはエジプト エンジニアは彼が半導体デバイスの製作の新しい方法を提案した塗る鐘の実験室でケイ素の半導体の表面の特性を調査した、電気は半導体層に達することを防いだ表面州を克服するケイ素酸化物の絶縁層によってシリコンの薄片に。これは表面不動態化、ケイ素の集積回路のそれとして半導体工業に重大に後で可能にした大量生産をなった方法として知られている。

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ブランド名: Upperbond
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MOQ: 2 PC
価格: 交渉可能
パッケージの詳細: カートン
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起源の場所:
中国
ブランド名:
Upperbond
証明:
CE, ISO
モデル番号:
メーカー
タバコの直径:
5.4mm - 8.0mm
色:
灰色/銀
郵送物の港:
広州、上海
適当な機械:
紙巻タバコ製造機械
機械モデル:
Protos、Passim、MK8、MK9、
条件:
真新しい
最小注文数量:
2 PC
価格:
交渉可能
パッケージの詳細:
カートン
受渡し時間:
5-8日
支払条件:
T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram、Paypal
供給の能力:
10000 PC/月
ハイライト:

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MK9タバコ機械トランジスター

製品説明

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トランジスターは電気信号および電力を増幅するか、または転換するのに使用される半導体デバイスである。トランジスターは現代電子工学の基礎部品構造の1つである。それは外的な回路への関係のための少なくとも3台のターミナルが付いている半導体材料で通常構成される。

源下水管の評価および特徴

変数 タイプ 最高。
ある 連続的なソース電流(ボディ ダイオード) 49
主義 脈打ったソース電流(ボディ ダイオード)① 160
VsD ダイオード前方電圧 1.3
trr 逆の回復時間 63 95
Qrr 逆の回復充満 170 260

ポケット トランジスタ ラジオ

最初の「プロトタイプ」ポケット トランジスタ ラジオは1953年8月29日と1953年9月6日間のインターナショナルFunkausstellungデュッセルドルフ行政管区のINTERMETALL (1952年にハーバートMataréが創設する会社)によって示されていた。最初の「生産」のポケット トランジスタ ラジオは1954年10月に解放された執権期間TR-1だった。

大量生産

50年代では、モハメドAtalla電気が次行なうケイ素に確実に突き通ることができるのはエジプト エンジニアは彼が半導体デバイスの製作の新しい方法を提案した塗る鐘の実験室でケイ素の半導体の表面の特性を調査した、電気は半導体層に達することを防いだ表面州を克服するケイ素酸化物の絶縁層によってシリコンの薄片に。これは表面不動態化、ケイ素の集積回路のそれとして半導体工業に重大に後で可能にした大量生産をなった方法として知られている。

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